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各種開発業務【東証一部上場フォトレジストメーカー】  /  東京応化工業株式会社

ジョブNo.NJB1057253
職種 各種開発業務【東証一部上場フォトレジストメーカー】
社名 東京応化工業株式会社
業務内容 下記4ポジションの募集がございます。ご経験に応じてご担当頂きます。

(1)新規化合物設計
 新規化合物の設計: 量子化学計算を用いた光応答性または熱応答性材料の設計。合成原材料モノマーの分子特性から、合成化合物の光または熱応答性を考える。
 合成ルートの最適化: 設計された化合物の熱エネルギーから、遷移状態を求め、最も効率的な合成ルートを探索する。
 外部機関との連携: 上述の計算を実施するにあたり、負荷の大きい計算を外部委託する。この委託業務に関する交渉対応。

(2)モノマー・ポリマー他開発
 主に電子材料(半導体・ディスプレイ)に使用される材料(モノマー、ポリマー、開始剤、添加剤等)の開発にかかわる業務。
 新規材料の設計、合成、重合、および処方の確立
 量産のためのスケールアップ
 分析・評価条件の検討
 特許出願・特許調査

(3)ArFレジスト用途低分子材料の開発と評価
 現行の標準的構成であるOnium塩タイプPAGにおけるアニオンの設計と合成
 現行標準であるアクリレートタイプのポリマー重合に用いるモノマーの設計と合成
 ArFレジスト基材樹脂の新規重合方法の検討と評価
 現行のランダム重合から、リビング重合などのより制御された重合処方の開発
 レジスト開発者とのディスカッション、材料ベンダーへの合成委託、量産立ち上げ・出願

(4)フォトレジスト材料の開発
 材料に必要な機能を定義し、合成すべき材料の構造式を創出し、合成する
 合成した材料が目的の物質であるか、分析、判断を行う
 機能定義の明確化の為、顧客元への出張、ヒアリング
求める経験 (1)新規化合物設計
■必須
・量子化学の技能
・有機合成の知見
■尚可
・Gaussianの操作に長けており、光励起状態の考察が出来るレベル
・化合物の合成経路において中間体である遷移エネルギーから、合成収率の向上の可能性が見いだせるレベル

(2)モノマー・ポリマー他開発
■必須
・有機合成経験
■尚可
・Si系材料(シリコーン、シラザン、ポリシラン、シロキサン)合成経験

(3)ArFレジスト用途低分子材料の開発と評価
■必須
・理系大学院修士卒以上
・研究および業務で有機合成経験3年以上
・合成スキームを独自に立案、遂行できるレベルの合成スキル

(4)フォトレジスト材料の開発
・大学院修士以上
・有機合成経験者
・無機金属錯体合成経験者
・幅広い有機化学の知識、分析機器のオペレーションおよび解析能力
・実験計画法、情報収集スキル(語学力、コミュニケーション能力等)
語学力 英語力:不問
勤務地
神奈川県
年収 500万円 - 650万円
雇用形態 無期雇用

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